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低温恒温槽常见问题解答

文章出处:博大精科网责任编辑:szbdjk作者:szbdjk 人气:-发表时间:2012-02-15 16:10:00

低温恒温槽应用范围:
  
  对半导体制造装置发热部的冷却:单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。
  
  对激光装置发热部分的冷却:激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。
  
低温恒温槽常见问题:
  
  1、水循环使用了一年多都很正常,可现在制冷速度好像越来越慢了,在气温越高时越明显?
  
  答:水循环使用很简单,但是定期的维护保养工作还是不能忽视的。有很多看似故障的毛病其实就是没有定期做维护保养引起的。水循环自身的电功率和制冷剂从负载中带走的热量都需要从前通风罩处的散热器中排走,如果前通风罩上吸满灰尘和柳棉等就会妨碍这些热量的散发,制冷效果将大打折扣。一般来说在正常的使用条件下制冷量下降都是因为通风散热效果太差或环境温度太高引起的。
  
  2、水循环以前使用都很正常,可现在发现噪音比以前大很多,这是什么原因?
  
  答

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